세정·코팅·표면처리 위탁·유가금속 회수까지, 반도체 공정 파트너로서 One-Stop 솔루션을 제공합니다.
Clean Room 1,000급 환경에서 Ceramic·Anodizing·Metal·AL Parts 등 다양한 반도체 장비 부품을 정밀 세정합니다. 오염된 표면을 원본 상태로 복원하여 부품 수명을 연장하고 교체 비용을 절감합니다.
쿼츠·세라믹 부품의 플라즈마 오염 제거, 투명도 완전 회복
Chamber Cover·Anode Shield·Shower Head — 코팅 손상 없이 원복 상태로 복원
Shadow Ring·Sp Shield Chuck·SUS Plate — Cu·Ti·Au 오염 완전 제거
알루미늄 계열 부품의 표면 오염물 제거 및 품질 복원
잔여물 증착 → 원본 상태 복원
전문화된 다단계 공정으로 최상의 세정 품질을 보장합니다
전용 프레임 아크 코팅 설비로 반도체 장비 부품의 내식성·내플라즈마성을 강화합니다. 세라믹 산화물 피막을 균일하게 형성하여 부품 수명을 대폭 연장하고, 코팅 손상 없는 정밀 복원으로 교체 비용을 절감합니다.
아크 방전을 이용한 고밀도 세라믹 피막 형성 — 내플라즈마성·내식성이 요구되는 Chamber 내부 부품에 최적
전용 프레임 아크 설비 운용 — 대면적 균일 피막 형성, 강한 밀착력과 내플라즈마성 보장
Chamber Cover·Anode Shield·Shower Head 등 양극산화 피막 손상 없이 정밀 복원
피막두께 측정기·초음파 두께 측정기·표면 거칠기 측정기로 전수 검사
세정 공정 중 발생하는 스크랩에서 Au(금)·Pt(백금)·Pd(팔라듐)·Ag(은)을 회수합니다. MAGELLAN Au(4N5) 분석기로 99.995% 고순도 정련 후 투명하게 고객사에 데이터를 제공합니다.
부품을 직접 가공하시는 고객사의 샌딩(비드 블라스팅)과 정밀 세정 구간만 맡아 처리합니다. 미세홀이 많고 표면 균일도가 공정 품질을 좌우하는 반도체 장비용 Shower Head에 특히 강점이 있습니다.
노즐 거리·압력·이송속도를 프로그램으로 고정해, 작업자가 바뀌어도 같은 표면 조도(Ra)를 재현합니다.
잔류 미디어와 분진을 같은 공간에서 곧바로 제거해, 이송 중 재오염과 공정 간 책임 소재 문제가 없습니다.
소재별로 미디어 라인을 분리 운용하고 라인 세척 절차를 문서화해 교차오염을 차단합니다.
모델별 처리 조건을 문서로 관리하고, 로트별 측정값을 성적서로 함께 보내드립니다.
※ 고객사 설계 보호를 위해 부품 일부만 확대해 공개합니다.
